DEPENDENCE OF THE CHEMICAL ETCHING ON THE
TYPE OF ETCHANT AND ITS CONCENTRATION
AND TEMPERATURE FOR CR-39 *

ELGAMAL, L.M., NADA, A.A., ABD EL-MAKSOUD, T.M.
and MORSY, A.A.

Physics Dept., Collage of Women for Arts, Science and Education,
 Ain Shams University, Cairo, Egypt.

Key words: Solid state nuclear track detectors, CR-39, Electro-chemical etching, NaOH and KOH concentrations, Bulk etching rate, Activation energy.

دراسة اعتماد الحفر الكيميائى V_B على نوع محلول الحافز
و تركيزه ودرجة حرارته للكاشف  CR-39

لينا محمد الجمل وعفاف عبد اللطيف ندا و ثناء محمد عبد المقصود و أحمد أحمد مرسى

خلاصـــة

تعتمد دراسة الحفر الكتلى V_B على تركيز ودرجة حرارة محاليل كل من هيدروكسيد الصوديوم وهيدروكسيد البوتاسيوم للكاشف و قد تم تغيير التركيز ودرجة الحرارة فى المدى
من 2-11 N و 320-370 K ، على الترتيب. تم أيضاً حساب متوسط طاقة التنشيط من المعادلة المبسطة ارهينيوس لكل من المحلولين وكانت النتائج 0.788 إلكترون فولت عند استخدام هيدروكسيد الصوديوم كمحلول لعملية الحفر و 0.744 إلكترون فولت عند استخدام هيدروكسيد البوتاسيوم كمحلول لعملية الحفر وقد لوحظ أن معدل الحفر الكتلى V_B  يزداد مع زيادة كل من التركيز ودرجة الحرارة.

ABSTRACT

In the present study, the dependence of the bulk etching rate V_B on the concentration and the temperature of both NaOH and KOH etching solutions has been studied for CR-39. The concentration and temperature have been varied in the ranges 2-11 N and 320-370 K, respectively. The application of a simple Arrhenius law of chemical reactions revealed mean activation energy of 0.788 eV when NaOH was used as etchant and 0.744 eV when KOH solution was used. V_B was found to increase with increasing either concentration or temperature.